光學(xué)拋光方法有熱流法、回蝕法、旋轉(zhuǎn)玻璃法、電子環(huán)繞共振法、低壓CVD、選擇性沉積、沉積-蝕刻-沉積、等離子增強(qiáng)CVD等，這些技術(shù)已經(jīng)用于材料平面化技術(shù)的開(kāi)發(fā)。 由于這些技術(shù)都屬于材料的局部平面化技術(shù)，為了實(shí)現(xiàn)全局平面化，使用拋光粉作為化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)逐漸開(kāi)始發(fā)展。

近年來(lái)，隨著航天技術(shù)、光電技術(shù)、原子能技術(shù)、激光技術(shù)等前沿技術(shù)的快速發(fā)展，對(duì)光學(xué)元件的相關(guān)性能要求越來(lái)越高。在上述高精密科技領(lǐng)域，光學(xué)元件應(yīng)用廣泛，但光學(xué)元件的表面質(zhì)量要求較高。因此，光學(xué)元件的超精密加工是一個(gè)挑戰(zhàn)。在光學(xué)元件的加工工藝中，拋光是光學(xué)元件加工過(guò)程中非常關(guān)鍵的一步，光學(xué)拋光可以消除光學(xué)元件的表面劃痕和表面損傷，提高光學(xué)元件的表面質(zhì)量。